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   本实验室拥有大型仪器设备 10 余台,承担材料改性、薄膜合成及材料的分析、测试工作。

序号

服务项目

服务内容及实现的技术指标


使用仪器

1

金属离子注入

可以引出所有金属离子及部分导电的非金属离子,通过离子注入改善材料的力学、物理和化学性能。 主要参数: 加速电压 20~80kV 、最大束流 10mA 、束斑直径 140mm ; MEEV IV 80-10 金属离子注入机

2

全元素离子注入

具有气、固两用离子注入系统和低能溅射系统,可用于气体或金属离子注入及气体、固体离子同时注入,也可用于离子束增强沉积。通过离子注入改善材料的力学、物理和化学性能并制备高性能薄膜。 主要参数: 加速电压 20-80kV 、最大束流 10mA 、束斑直径 150mm TITAN 80 全元素离子注入机

3

微波 ECR 等离子体源全方位离子注入

主要参数: 微波源输出功率 100W 至 1000W 可调,背景真空度 3×10-4Pa ,设有三个磁控溅射靶,样品台温度在室温至 600 ℃范围内可控,负高压脉冲电源 -20kV 至 -60kV 可调; 脉冲重复频率 50Hz 至 100Hz 可调; 脉冲宽度 5 μ s 至 20 μ s 可调;该系统可用于全方位离子注入( PSII )、全方位离子增强沉积( PSII-IBED )、物理气相沉积( PVD )、等离子体增强物理气相沉积( PEPVD )、等离子体增强化学气相沉积( PECVD )与等离子体源离子氮化( PSIN )等。 微波 ECR 等离子体源全方位离子注入机

4

表面涂层

其 多模输出最高功率为 5kW ,低阶模输出最高功率为 3kW 。可以实现激光相变硬化和激光熔凝材料主要包括碳钢、铸铁、合金钢、钛合金、铜合金、及镁合金等;激光熔覆及合金化可分别在低碳钢、不锈钢、工具钢、模具钢、镍基合金、钛合金、铜合金、铝合金、铸铁及超级合金等基体表面获得各种耐磨涂层、隔热涂层、耐腐蚀抗氧化涂层、生物工程涂层及减磨涂层。 HJ-4 型二氧化碳连续激光器

5

脉冲电子表面改性

一种特殊的电物理装置,它能产生短脉冲( 5 m s )、高能量 (30keV) 、强流电子束 (10000A) 用于金属、半导体材料表面改性、表面强化、合金化、清洗及表面熔覆、快速淬火等。 强流脉冲电子束装置(低能电子炮)

6

表面多弧离子镀膜

弧源在蒸发放电中的弧电流从 50A-100A 连续可调,除可控制沉积速度外,可在大范围内调节二元以上合金薄膜的成分。
服务项目: 薄膜种类有
纯金属类: Al 、 Ti 、 V 、 Mo 、 Nb 、 Cu 、 Cr 、 Zr 、 Ni 、 Au 、 Hf 、 Ta 等。
合金类:上述金属任何二元或多元的组合薄膜。
化合物类:上述金属或合金蒸发后在真空室内充分反应气体,可获得金属化合物薄膜,如 TiN 、 HfN 、 ZrN 、 TiAlN 等。
Bulat-6 型多弧离子镀膜设备

7

脉冲离子表面改性

主要用于材料表面改性和薄膜制备。 主要参数: 离子能量 0.5MeV 、束流密度 300A/cm 2 , 10 13 -10 14 离子 /cm 2 速流密度可以使表面层快速加热、熔化和气化,升温速度 10 11 k/s 、急冷速度 10 7 -10 9 K/s 、定向能量 1-20eV. 强流脉冲离子加速器 TEML-450

8

材料的表面成分和元素化学状态分析

主要用于材料的表面成分和元素化学状态分析。可用于 Auger 电子能谱分析( AES ),扫描 Auger 电子显微术( SAM ), Auger 电子能谱深度分析和 X 射线光电子能谱分析( XPS )。 SIA 100 表面分析系统

9

硬度分析

用于测量维氏、努氏两种显微硬度,载荷范围是 0.5-50gf 。 DMH-2LS 超微载荷显微硬度计

10

结合强度分析

评价薄膜与基体之间的结合强度,载荷范围为 0-10Kg CSR-0 1 型划痕实验机

11

腐蚀测量

可用于动电位扫描,极化电阻测量,再活化电位测量,循环极化测量, Tafel 常数测量,自腐蚀电位随时间的关系测量,恒电流、恒电位测量及电偶腐蚀测量 M342-2 型腐蚀测量系统

12

性能评价

可用于材料的摩擦磨损性能评价 CETR UMT-2 多功能摩擦磨损测试系统
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